一、硅材料冲洗用高纯水设备应用范围概述： 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产　电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产　配料用纯水 黑白显像管荧光屏生产　玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产　屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 集成电路生产中高纯水清洗硅片 二、典型工艺流程 预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺) 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）({zx1}工艺) 预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） ({zx1}工艺) 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）({zx1}工艺) 处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺) 三、达到标准 显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据） 集成电路用纯水水质 国家电子级纯水标准 美国SEMI标准 四、设备特点 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、